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拓荊科技股份有限公司成立于2010年4月，是國家高新技術(shù)企業(yè)，主要從事半導體專用設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與技術(shù)服務。公司多次獲評中國半導體行業(yè)協(xié)會授予的“中國半導體設備五強企業(yè)”稱號。拓荊在北京、上海、海寧、青島、沈陽和美國、BVI、新加坡及日本成立子公司。拓荊主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備、次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備、高密度等離子體化學氣相沉積(HDPCVD)設備、超高深寬比溝槽填充（Flowable CVD）設備和三維集成(W2W/ D2W Hybrid Bonding)設備以及相關(guān)量測設備等系列，擁有自主知識產(chǎn)權(quán)，技術(shù)指標達到國際同類產(chǎn)品的先進水平。產(chǎn)品主要應用于集成電路晶圓制造、先進存儲和先進封裝、HBM、MEMS、Micro-LED和 Micro-OLED顯示等高端技術(shù)領(lǐng)域。拓荊產(chǎn)品已進入北京、上海、武漢、合肥、天津、臺灣等20多個地區(qū)的70多條生產(chǎn)線，并設有技術(shù)服務中心，為客戶提供每周7天，每天24小時的技術(shù)支持。公司已形成一支國際化的專業(yè)團隊，具備高科技研發(fā)實力及管理經(jīng)驗。通過多年技術(shù)積累，公司已建立自主知識產(chǎn)權(quán)的核心技術(shù)群及知識產(chǎn)權(quán)體系，被國家知識產(chǎn)權(quán)局評為“國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)(2022-2025)”。拓荊總部坐落于沈陽市渾南區(qū)，擁有現(xiàn)代化辦公大樓及高等級潔凈廠房，總建筑面積達40,000平方米，2025年6月，投資近十億的上海二廠已正式啟用，同時投入十多億籌建沈陽二廠。公司已獲得ISO9001、ISO14001、ISO45001體系的認證。通過與全球的供應商合作，形成了穩(wěn)定的供應鏈系統(tǒng)。拓荊公司愿與業(yè)界伙伴建立真誠、友好、共贏的產(chǎn)業(yè)合作聯(lián)盟，為中國及世界半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻。