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更新于 11月12日

軟件架構優(yōu)化工程師

2.5-4萬·13薪
  • 上海浦東新區(qū)
  • 5-10年
  • 本科
  • 全職
  • 招1人

職位描述

C#C++電子/半導體/集成電路
崗位職責:
1.負責對現(xiàn)有設備軟件架構和關鍵業(yè)務模塊架構進行持續(xù)優(yōu)化;
2.分析系統(tǒng)性能瓶頸,提出并實施優(yōu)化方案;
3.對進行持續(xù)與總體架構設計師緊密合作,確保優(yōu)化工作符合整體架構規(guī)劃;
4.編寫技術文檔,分享優(yōu)化經(jīng)驗和成果。
崗位要求:
1.本科及以上學歷,計算機科學、電子工程或相關專業(yè);
2.3年以上半導體設備或相關行業(yè)架構優(yōu)化經(jīng)驗;
3.熟練掌握C++及C#,精通RTOS及Linux實時化;
4.熟悉系統(tǒng)性能分析工具和方法,精通性能測試工具,熟悉性能優(yōu)化技術(如緩存優(yōu)化、數(shù)據(jù)庫優(yōu)化等),具備代碼優(yōu)化和重構能力;
5.良好的溝通和團隊協(xié)作能力,具備較強的解決問題能力。

工作地點

浦東新區(qū)拓荊科技(上海)有限公司

職位發(fā)布者

李女士/HRBP經(jīng)理

三日內活躍
立即溝通
公司Logo拓荊科技股份有限公司
拓荊科技股份有限公司成立于2010年4月,是國家高新技術企業(yè),主要從事半導體專用設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與技術服務。公司多次獲評中國半導體行業(yè)協(xié)會授予的“中國半導體設備五強企業(yè)”稱號。拓荊在北京、上海、海寧、青島、沈陽和美國、BVI、新加坡及日本成立子公司。拓荊主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備、次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備、高密度等離子體化學氣相沉積(HDPCVD)設備、超高深寬比溝槽填充(Flowable CVD)設備和三維集成(W2W/ D2W Hybrid Bonding)設備以及相關量測設備等系列,擁有自主知識產(chǎn)權,技術指標達到國際同類產(chǎn)品的先進水平。產(chǎn)品主要應用于集成電路晶圓制造、先進存儲和先進封裝、HBM、MEMS、Micro-LED和 Micro-OLED顯示等高端技術領域。拓荊產(chǎn)品已進入北京、上海、武漢、合肥、天津、臺灣等20多個地區(qū)的70多條生產(chǎn)線,并設有技術服務中心,為客戶提供每周7天,每天24小時的技術支持。公司已形成一支國際化的專業(yè)團隊,具備高科技研發(fā)實力及管理經(jīng)驗。通過多年技術積累,公司已建立自主知識產(chǎn)權的核心技術群及知識產(chǎn)權體系,被國家知識產(chǎn)權局評為“國家知識產(chǎn)權示范企業(yè)(2022-2025)”。拓荊總部坐落于沈陽市渾南區(qū),擁有現(xiàn)代化辦公大樓及高等級潔凈廠房,總建筑面積達40,000平方米,2025年6月,投資近十億的上海二廠已正式啟用,同時投入十多億籌建沈陽二廠。公司已獲得ISO9001、ISO14001、ISO45001體系的認證。通過與全球的供應商合作,形成了穩(wěn)定的供應鏈系統(tǒng)。拓荊公司愿與業(yè)界伙伴建立真誠、友好、共贏的產(chǎn)業(yè)合作聯(lián)盟,為中國及世界半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻。
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