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1、負(fù)責(zé)清洗（濕法清洗、去膠）及濕法刻蝕工藝的開(kāi)發(fā)、調(diào)試與參數(shù)優(yōu)化，制定標(biāo)準(zhǔn)化工藝文件（OI/SOP/OCAP等）。
2、主導(dǎo)新設(shè)備、材料評(píng)估與導(dǎo)入，設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)方案并驗(yàn)證工藝可行性。
3、監(jiān)控量產(chǎn)工藝穩(wěn)定性，分析良率波動(dòng)根源，解決生產(chǎn)中的異常問(wèn)題。
4、優(yōu)化設(shè)備KPI（利用率、停機(jī)時(shí)間等），降低生產(chǎn)成本。
5、編寫工藝流程卡、控制計(jì)劃（CP）、FMEA等文件，培訓(xùn)生產(chǎn)人員規(guī)范操作。
6、協(xié)同設(shè)備、研發(fā)團(tuán)隊(duì)推進(jìn)技術(shù)改造項(xiàng)目，支持新產(chǎn)品導(dǎo)入（NPI）412。
任職要求
1、本科及以上學(xué)歷，微電子、材料科學(xué)、化學(xué)工程、物理等理工科專業(yè)。
2、3年以上半導(dǎo)體/顯示行業(yè)清洗或濕刻工藝經(jīng)驗(yàn)，熟悉槽式/單片清洗設(shè)備、濕法刻蝕設(shè)備操作。
3、具備工藝異常分析能力，熟練使用檢測(cè)儀器（如SEM、橢偏儀等）評(píng)估工藝效果。
4、掌握DOE實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)方法，能獨(dú)立完成工藝優(yōu)化項(xiàng)目。
5、熟悉ISO/TS16949等質(zhì)量管理體系，具備FMEA、SPC工具應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)。
6、抗壓能力強(qiáng)，適應(yīng)加班及緊急生產(chǎn)支持需求；
7、具備團(tuán)隊(duì)協(xié)作精神，擅長(zhǎng)跨部門溝通。
優(yōu)先考慮項(xiàng)
1、熟悉精密光學(xué)元件清洗或倒裝工藝者；
2、有新材料（如碳化硅粉體）清洗工藝開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)者。