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崗位職責(zé)： 1、 負(fù)責(zé)微納制造設(shè)備技術(shù)洞察與規(guī)劃，把握業(yè)界設(shè)備技術(shù)趨勢(shì)和發(fā)展方向，提前儲(chǔ)備關(guān)鍵設(shè)備技術(shù)，構(gòu)建核心設(shè)備技術(shù)Know-how。 2、 負(fù)責(zé)濕法Module相關(guān)微納制造設(shè)備能力建設(shè)和團(tuán)隊(duì)管理工作，構(gòu)建合理人才梯隊(duì)，系統(tǒng)持續(xù)提升微納制造設(shè)備領(lǐng)域競(jìng)爭(zhēng)力。 3、 負(fù)責(zé)濕法Module相關(guān)微納制造設(shè)備導(dǎo)入及設(shè)備運(yùn)維管理相關(guān)工作，包括新設(shè)備技術(shù)評(píng)估與導(dǎo)入、設(shè)備安裝與調(diào)試，處理設(shè)備重大異常，培養(yǎng)設(shè)備工程師能力梯隊(duì)。 4、 負(fù)責(zé)關(guān)鍵設(shè)備重大技術(shù)問題攻關(guān)，帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)進(jìn)行設(shè)備改造優(yōu)化、2nd Source替代等，提升設(shè)備效率，提高設(shè)備穩(wěn)定性，持續(xù)構(gòu)建設(shè)備綜合競(jìng)爭(zhēng)力。 崗位要求： 1，熟悉Bench/single wafer/scrubber/電鍍/Liftoff/CMP機(jī)臺(tái)的結(jié)構(gòu)和工作原理;對(duì)濕法設(shè)備有較強(qiáng)的解決問題和分析問題的能力； 2、良好的督導(dǎo)和教導(dǎo)技能； 3、良好的管理設(shè)備廠商的能力； 4、技術(shù)文檔編寫能力； 5、性格樂觀開朗，耐壓能力強(qiáng)，有良好的溝通理解力。 6、8年及以上半導(dǎo)體濕法設(shè)備導(dǎo)入經(jīng)驗(yàn)或開發(fā)經(jīng)驗(yàn)； 7、本科及以上學(xué)歷，有大廠成功量產(chǎn)相關(guān)經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先。 8、英語四級(jí)及以上。