崗位概述
負(fù)責(zé)半導(dǎo)體、精密光學(xué)或高端材料領(lǐng)域清洗/拋光工藝的研發(fā)與優(yōu)化,通過創(chuàng)新技術(shù)提升表面處理效果與生產(chǎn)效率,支產(chǎn)品制造需求。
核心職責(zé)
- 開展清洗/拋光新工藝、新材料、實(shí)驗(yàn)研究與技術(shù)開發(fā)。
- 優(yōu)化現(xiàn)有工藝參數(shù),解決生產(chǎn)中的技術(shù)難題,提升產(chǎn)品良率與穩(wěn)定性。
- 參與制定工藝標(biāo)準(zhǔn)與操作規(guī)范,完成技術(shù)文檔撰寫與專利布局。
- 協(xié)同設(shè)備、質(zhì)量團(tuán)隊(duì)完成工藝驗(yàn)證等。
任職要求
- 碩士及以上學(xué)歷,材料、化學(xué)、機(jī)械、微電子、物理等相關(guān)專業(yè)。(歡迎博士投遞)
- 熟悉濕法清洗、CMP、超聲清洗、等離子清洗等至少一種工藝原理。
- 具備實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)、數(shù)據(jù)分析與報(bào)告撰寫能力。
- 具備較強(qiáng)的邏輯思維與動(dòng)手能力,對工藝研發(fā)有濃厚興趣。