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1.負(fù)責(zé)芯片制造中的光刻工藝優(yōu)化與改進(jìn)，包括光刻膠涂布、曝光、顯影等環(huán)節(jié)的參數(shù)調(diào)整，以提高產(chǎn)品良率和性能。 2.負(fù)責(zé)光刻版圖設(shè)計(jì)，優(yōu)先考慮熟悉L-edit，CAD等設(shè)計(jì)軟件； 3.進(jìn)行光刻設(shè)備的日常維護(hù)與管理，確保設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行。定期對設(shè)備進(jìn)行校準(zhǔn)和保養(yǎng)，及時(shí)處理設(shè)備故障，減少停機(jī)時(shí)間，保障生產(chǎn)進(jìn)度。 4. 參與新產(chǎn)品導(dǎo)入階段的光刻工藝開發(fā)工作。與研發(fā)團(tuán)隊(duì)緊密合作，根據(jù)產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求，制定合適的光刻工藝方案，并進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證和優(yōu)化。 5.跟蹤和分析光刻工藝相關(guān)的質(zhì)量數(shù)據(jù)，如套刻精度、分辨率、缺陷率等。運(yùn)用統(tǒng)計(jì)分析工具找出工藝波動(dòng)的原因，并采取有效的改進(jìn)措施，持續(xù)提升工藝穩(wěn)定性。