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12寸fab工藝相關(guān)崗位：
光刻 Scanner（掃描曝光機(jī)）前端黃光（曝光和涂布等）、TRACK（涂膠顯影機(jī)），litho后端、BEOL也是后端、track
備注：里面會(huì)涉及到一個(gè)關(guān)鍵技術(shù)OPC（光學(xué)修正）
爐管 Furnace
注入 Implant
刻蝕 分為濕法（Wet Etching）蝕刻，也叫clean清洗；干法（Dry Etching）蝕刻，也叫ETCH
熱退火 RTP
外延 EPI
薄膜TF 分為CVD（化學(xué)氣相沉積）、PVD（物理氣象沉積）、ALD（原子層沉積）、CMP（研磨、切割、拋光）