崗位概述
負(fù)責(zé)光刻膠涂布、顯影、曝光等黃光工藝的研發(fā)與優(yōu)化,支持半導(dǎo)體等領(lǐng)域技術(shù)的創(chuàng)新與應(yīng)用。
核心職責(zé)
- 開(kāi)展光刻膠材料、涂膠工藝、曝光參數(shù)等實(shí)驗(yàn)研究與技術(shù)開(kāi)發(fā)。
- 優(yōu)化光刻工藝流程,提升圖形分辨率、均勻性與缺陷控制水平。
- 參與光刻設(shè)備評(píng)估與工藝整合,支持新產(chǎn)品試制與良率提升。
- 撰寫工藝文檔、實(shí)驗(yàn)報(bào)告與技術(shù)專利。
任職要求
- 碩士及以上學(xué)歷,微電子、化學(xué)、材料、光電、高分子等相關(guān)專業(yè)。
- 了解光刻工藝基本原理,有涂膠、曝光、顯影等實(shí)驗(yàn)經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。
- 具備良好的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)與數(shù)據(jù)分析能力。
- 責(zé)任心強(qiáng),具備良好的團(tuán)隊(duì)協(xié)作與溝通能力。